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【发明专利】光刻机等精密光学设备高精度控制用压电微马达

合作方式:其他
所属行业:智能制造装备
技术价格:面议
对接状态: 未对接
军方技术: 否

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发布人:junrong@csscip.com

单 位:广东军荣知识产权运营有限公司

  • 超精密定位技术是精密制造、精密测量和精密驱动中的核心关键技术之一,在现代尖端工业生产和科学研究占有极其重要的地位,左右着各领域高、精、尖技术的发展。欧美等先进国家在微电子技术和高技术等方面的领先地位得益于其在超精密定位和测试技术方面的发展水平。尤其是在半导体芯片加工领域,光刻机作为半导体加工中最重要的芯片加工核心设备,其中大多数运动部件以及光学部件都需要执行超精密纳米驱动。目前国际上最先进的芯片线宽光刻加工可达7 nm,但我国目前水平与国外存在数倍以上的差距,成为限制半导体产业的发展的卡脖子技术。如何实现大行程、高运动速度、高加速度,同时具有纳米分辨率,已成为当前精密机械运动系统、精密伺服驱动器与电机领域一个亟待解决的难题。研制出压电-电磁双机理纳米直线运动电机,并且商业化用于光刻机超高精度控制。工程化样机实现宏观运动时最大运行速度51.2mm/s,压电步进微观运动时速度在0~135μm/s,压电伺服最小位移分辨率2nm。本项目高精度压电微马达能够用于新基建低轨卫星星间激光通信对准系统;目前已经为国际TOP3手机镜头模组生产商提供压电微马达产品,未来手机镜头模组用压电微马达市场高达百亿